日本宣布开发出新技术，可大幅降低极紫外光刻设备耗电量和制造成本

日本科学家研发新技术，极紫外光刻设备能耗和成本大幅降低

近日，日本冲绳科学技术大学院大学成功开发出一项革命性技术，该技术能够显著降低极紫外光刻设备（EUV）的耗电量和制造成本。通过将设备中光源到光刻路径上的反光镜数量从10个减少到4个，新设计使得整体耗电量降低至原来的十分之一。此外，设备的结构也得到了大幅简化，预计原本需要200亿日元的设备引入成本几乎可以减半。

这项创新技术不仅提高了能源效率，还降低了生产成本，为半导体制造行业带来了重大突破。据悉，该大学计划与企业合作，推动这种设备的日本国产化进程。这一成果有望在全球范围内产生深远影响，推动半导体技术的进步和发展。